PACVD涂層技術(shù)（等離子輔助化學(xué)氣相沉積）是一種基于真空的工藝，用于沉積DLC（類(lèi)金剛石）涂層，也稱為 ADLC（非晶類(lèi)金剛石）。PACVD涂層技術(shù)的所有離析物都是氣態(tài)的。這使其適用于均勻涂覆立體的鍍件，而無(wú)需像 PVD ??那樣需要旋轉(zhuǎn)。涂層在結(jié)構(gòu)上是無(wú)定形的，并且包含大約 70% 的sp³黏結(jié)，這說(shuō)明了涂層的高硬度 (10-40 GPa)。PACVD 工藝用于在低于 200 °C 的溫度下鍍制范圍非常廣泛的導(dǎo)電和非導(dǎo)電薄膜。典型的厚度在 2 – 3 μm 的范圍內(nèi)。

DLC 類(lèi)金剛石涂層在干燥或潤(rùn)滑不足的條件下具有出色的硬度、耐磨性和低摩擦性能。它們非常適用于發(fā)動(dòng)機(jī)、機(jī)器和其他具有滑動(dòng)和滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)的機(jī)械組件中的摩擦系統(tǒng)。無(wú)需任何后處理的完美表面光潔度使它們成為高精度注塑工具和裝飾用途的理想選擇。DLC 具有化學(xué)惰性和生物相容性，可用于醫(yī)療組件和植入物。

• 豐富的基材材料
• 高精度的基板不變形
• 無(wú)需后期處理操作
• 無(wú)需旋轉(zhuǎn)即可均勻進(jìn)行立體鍍件鍍膜
• 排放物、鍍膜工藝過(guò)程和相關(guān)產(chǎn)物，均屬于綠色環(huán)保