化學(xué)氣相沉積 (CVD) 是一種通過熱誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)生產(chǎn)低應(yīng)力涂層的方法。將涂層材料以化學(xué)的形式添加到涂層區(qū)。然后蒸氣分解或與其他前體反應(yīng)，從而在基材上產(chǎn)生薄膜。前體被連續(xù)送入反應(yīng)區(qū)并去除副產(chǎn)物。CVD涂層技術(shù)可以在真空或大氣壓下進(jìn)行。

普科CVD涂層技術(shù)在涂層沉積過程使用金屬鹵化物作為涂層前體，例如 TiCl?₄或 AlCl?₃。多年來，該技術(shù)一直在不斷改進(jìn)，以滿足市場對涂層質(zhì)量、工藝和設(shè)備的可靠性和生產(chǎn)率不斷提高的要求。CVD涂層技術(shù)用于沉積 5 到 12微米的涂層，在特殊情況下，我們的技術(shù)可達(dá) 20 μm 厚的涂層。使用的材料是 TiC、TiCN、TiN 和 α 或 κ 氧化鋁（Al?₂?0?₃）。它們作為單層或多層應(yīng)用在刀片上，用于切削應(yīng)用、成型和成型工具，如沖頭、擠壓和修邊模具以及各種易受磨損或腐蝕環(huán)境影響的機(jī)械部件。

普科CVD涂層技術(shù)的典型工藝溫度 為 720 至 1050 °C。基材材料有碳化鎢、工具鋼、高溫鎳合金、陶瓷和石墨?；鼗痄摴ぞ吆筒考枰谕繉雍筮M(jìn)行熱處理，以達(dá)到所需的硬度。

• 低應(yīng)力

• 由于形成擴(kuò)散鍵，涂層具有出色的附著力
• 高承載能力
• 卓越的涂層均勻性，不受零件幾何形狀的影響
• 可以涂覆復(fù)雜的幾何形狀，包括某些有內(nèi)徑的零件